Beam Tap Beam Sampling System, Dual Surface, 2 UVFS Cubes, 400-700 nm

规格

  • 光谱范围
    400-700 nm
  • 反射
    0.16% Ravg
  • 损伤阈值
    1 MW/cm² CW, 1 MJ/cm² pulsed
  • 材料
    UV-Grade Fused Silica
  • 通光孔径
    Ø20 mm
  • 界面
    C-mount

资源与下载

3D 产品模型
Data Sheets
Drawings & CAD